据外洋报道，荷兰光刻机制作商ASML曾经确认将向客户交付最新款的EUV光刻机EXE:5200。这款新机型比拟上一代产物来说更为强盛，因而不会向中国厂商贩卖。官方表现，EXE:5200是初代High NA EUV光刻机EXE:5000的进级版。新款光刻机领有更高的晶圆吞吐量，即每小时可加工185片以上晶圆，可能更好地支撑2nm工艺的量产。此前，ASML发布英特尔订购了业界首个TWINSCAN EXE:5200光刻机，这是一种存在高数值孔径跟每小时200多片晶圆的极紫外（EUV）大量量出产体系。这一举措标记着他们在引入0.55 NA EUV技巧方面又获得了主要停顿。TWINSCAN EXE:5000跟EXE:5200均装备了0.55数值孔径的透镜，相较于前代EUV光刻机所采取的0.33数值孔径透镜精度有了明显进步。这将为更小尺寸晶体管功效供给更高辨别率的形式。该EUV 0.55 NA技巧旨在从2025年开端利用于多个将来节点，并随后将采取相似密度的内存技巧加以推广。